Описание
Характеристики газовой шапки плазменного вихря G4020:
1 Улучшенный поток газа
- Вихревая технология: Создает вихревое движение, которое улучшает смешивание газов и повышает стабильность плазмы.
- Равномерное распределение: Газовая крышка с плазменным вихрем G4020 обеспечивает равномерное распределение газа для стабильной генерации плазмы.
2 Высокотемпературное сопротивление
- Прочные материалы: Изготовлен из материалов, которые выдерживают высокие температуры, обеспечивая долговечность в сложных условиях.
3 Коррозионная стойкость
- Химическая стойкость: Газовая крышка с плазменным вихрем G4020 обеспечивает устойчивость к коррозии от различных газов и химикатов, используемых в плазменных процессах.
4 Компактный дизайн
- Компактный: Компактный размер позволяет легко интегрировать его в существующие системы, не требуя значительных модификаций.
5 Простая установка
- Удобный: Газовая крышка с плазменным вихрем G4020 обеспечивает простой процесс установки благодаря стандартным фитингам для быстрой установки.
6 Универсальные приложения
- Широкая совместимость: Подходит для различных применений плазмы, включая производство полупроводников и обработку поверхности.
7 Улучшенная производительность плазмы
- Повышение эффективности: Газовая крышка с плазменным вихрем G4020 обеспечивает повышение общей производительности плазмы за счет оптимизации потока газа и стабильности.
|
Hifocus130i
|
КОД
|
Описание
|
|
G901Y
|
.11.848.201.142
|
Охлаждающая трубка
|
|
G002Y
|
.11.848.221.300
|
Катод O2
|
|
G101
|
.11.848.221.145
|
Гид газ
|
|
G2006
|
.11.848.221.406
|
Сопло O2 25а
|
|
G2007
|
.11.848.221.407
|
Сопло O2 35A
|
|
G3004
|
.11.848.201.1604
|
Крышка для насадки
|
|
G4015
|
.11.848.201.1515
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G4020
|
.11.848.201.1520
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G501
|
.11.848.201.081
|
Защитная кепка
|
|
G003Y
|
.11.848.221.310
|
Катод -O2
|
|
G102
|
.11.848.221.146
|
Гид газ
|
|
G2008
|
.11.848.221.408
|
Сопло O2 50a
|
|
G2010
|
.11.848.221.410
|
Сопло O2 80A
|
|
G2012
|
.11.848.221.412
|
Сопло O2 120A
|
|
G2014
|
.11.848.221.414
|
Сопло O2 160a
|
|
G2016Y
|
.11.848.221.416
|
Сопло O2 200a
|
|
G3028
|
.11.848.201.1628
|
Крышка для насадки
|
|
G4022
|
.11.848.201.1522
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G4025
|
.11.848.201.1525
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G4030
|
.11.848.201.1530
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G032Y
|
.11.848.421.310
|
Катод O2
|
|
G034Y
|
.11.848.421.330
|
Катод O2
|
|
G121
|
.11.848.421.145
|
Гид газ
|
|
G2326Y
|
.11.848.421.426
|
Сопло O2 280a
|
|
G2330Y
|
.11.848.421.430
|
Сопло O2 360a
|
|
G2331Y
|
.11.848.421.431
|
Сопло -O2-400A
|
|
G3209
|
.11.848.401.1609
|
Крышка для насадки
|
|
G3219
|
.11.848.401.1619
|
Крышка для насадки
|
|
G3229
|
.11.848.401.1629
|
Крышка для насадки
|
|
G4345
|
.11.848.401.1545
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G4350
|
.11.848.401.1550
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G4355
|
.11.848.401.1555
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G971
|
.11.848.411.142
|
Охлаждающая трубка
|
|
G042
|
.11.848.211.510
|
Катод ARH2
|
|
G3008
|
.11.848.201.1608
|
Крышка для насадки
|
|
G3018
|
.11.848.201.1618
|
Крышка для насадки
|
|
G052
|
.11.848.311.510
|
Катод
|
|
G105
|
.11.848.221.149
|
Гид газ
|
|
G2516
|
.11.848.311.616
|
Сопло
|
|
G4530
|
.11.848.311.1530
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G071
|
.11.848.411.500
|
Катод ARH2
|
|
G125
|
.11.848.421.149
|
Гид газ
|
|
G2725
|
.11.848.411.625
|
Сопло arh2
|
|
G2727
|
.11.848.411.627
|
Сопло arh2
|
|
G2729
|
.11.848.411.629
|
Сопло arh2
|
|
G3249
|
.11.848.401.1649
|
Крышка для насадки
|
|
G4335
|
.11.848.401.1535
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G4340
|
.11.848.401.1540
|
Вихрь газовой крышка
|
|
G521
|
.11.848.401.081
|
Защитная кепка
|
Применение газовой шапки с плазменным вихрем G4020:
1 Полупроводниковое производство
- Плазменное травление: Улучшает распределение газа для точных процессов травления полупроводниковых пластин.
- Химическое осаждение из паровой фазы (CVD): Улучшает смешивание газов для равномерного нанесения тонких пленок.
2 Поверхностная обработка
- Плазменная очистка: Используется в применении для очистки для обеспечения тщательной подготовки поверхности перед покрытием или соединением.
- Модификация поверхности: Облегчает обработку плазмы, которые изменяют поверхностные свойства для усиленной адгезии.
3 Обработка материала
- Плазменное покрытие: Поддерживает однородные процессы покрытия в таких отраслях, как аэрокосмическая и автомобильная.
- Обработка металлов: Plasma Swirl Gas Cap G4020 Эффективен при упрочнении в плазме и поверхности обработки металлов.
4 Исследования и разработки
- Исследования физики плазмы: Используется в лабораториях для экспериментов, связанных с поведением плазмы и динамики газа.
- Материальная наука: Помогает в исследованиях новых материалов и их взаимодействия в плазменных средах.
5 Медицинские заявки
- Плазменная стерилизация: Plasma Swirl Gas Cap G4020 используется в процессах стерилизации, чтобы обеспечить ровный поток газа для эффективного микробного восстановления.
- Покрытие медицинского устройства: Облегчает покрытия на медицинских устройствах для улучшения биосовместимости.
6 Энергетический сектор
- Исследование ядерного слияния: Поддерживает поток газа в экспериментальных реакторах слияния, повышает стабильность плазмы.
- Тепловое управление: Используется в системах производства электроэнергии, использующих плазменную технологию.
Отзывы
Отзывов пока нет.