Beschrijving
Features of Plasma Swirl Gas Cap G4020:
1. Enhanced Gas Flow
- Swirl-technologie: Creates a swirling motion that improves gas mixing and enhances plasma stability.
- Uniform Distribution: Plasma swirl gas cap G4020 ensures even gas distribution for consistent plasma generation.
2. Hoge temperatuurweerstand
- Durable Materials: Gemaakt van materialen die bestand zijn tegen hoge temperaturen, waardoor een lange levensduur in veeleisende omgevingen wordt gegarandeerd.
3. Corrosiebestendigheid
- Chemische duurzaamheid: Plasmawervelgaskap G4020 zorgt ervoor dat hij bestand is tegen corrosie door verschillende gassen en chemicaliën die worden gebruikt in plasmaprocessen.
4. Compact ontwerp
- Ruimte-efficiënt: Compact formaat zorgt voor eenvoudige integratie in bestaande systemen zonder dat er aanzienlijke aanpassingen nodig zijn.
5. Eenvoudige installatie
- Gebruiksvriendelijk: Plasmawervelgasdop G4020 zorgt voor een eenvoudig installatieproces met standaardfittingen voor een snelle installatie.
6. Veelzijdige toepassingen
- Brede compatibiliteit: Geschikt voor diverse plasmatoepassingen, waaronder de productie van halfgeleiders en oppervlaktebehandeling.
7. Verbeterde plasmaprestaties
- Efficiency Boost: Plasmawervelgaskap G4020 zorgt voor betere plasmaprestaties door de gasstroom en stabiliteit te optimaliseren.
|
Hifocus130i
|
CODE
|
Beschrijving
|
|
G901Y
|
.11.848.201.142
|
Koelbuis
|
|
G002y
|
.11.848.221.300
|
Kathode O2
|
|
G101
|
.11.848.221.145
|
Gasgids
|
|
G2006
|
.11.848.221.406
|
Nozzle o2 25a
|
|
G2007
|
.11.848.221.407
|
Nozzle o2 35a
|
|
G3004
|
.11.848.201.1604
|
Spuitmonddop
|
|
G4015
|
.11.848.201.1515
|
Wervelkast
|
|
G4020
|
.11.848.201.1520
|
Wervelkast
|
|
G501
|
.11.848.201.081
|
Beschermende pet
|
|
G003y
|
.11.848.221.310
|
Cathode -O2
|
|
G102
|
.11.848.221.146
|
Gasgids
|
|
G2008
|
.11.848.221.408
|
Nozzle o2 50a
|
|
G2010
|
.11.848.221.410
|
Nozzle O2 80A
|
|
G2012
|
.11.848.221.412
|
Nozzle o2 120a
|
|
G2014
|
.11.848.221.414
|
Nozzle o2 160a
|
|
G2016Y
|
.11.848.221.416
|
Nozzle O2 200A
|
|
G3028
|
.11.848.201.1628
|
Spuitmonddop
|
|
G4022
|
.11.848.201.1522
|
Wervelkast
|
|
G4025
|
.11.848.201.1525
|
Wervelkast
|
|
G4030
|
.11.848.201.1530
|
Wervelkast
|
|
G032Y
|
.11.848.421.310
|
Kathode O2
|
|
G034Y
|
.11.848.421.330
|
Kathode O2
|
|
G121
|
.11.848.421.145
|
Gasgids
|
|
G2326Y
|
.11.848.421.426
|
Nozzle o2 280a
|
|
G2330y
|
.11.848.421.430
|
Nozzle o2 360a
|
|
G2331Y
|
.11.848.421.431
|
Nozzle -O2-400A
|
|
G3209
|
.11.848.401.1609
|
Spuitmonddop
|
|
G3219
|
.11.848.401.1619
|
Spuitmonddop
|
|
G3229
|
.11.848.401.1629
|
Spuitmonddop
|
|
G4345
|
.11.848.401.1545
|
Wervelkast
|
|
G4350
|
.11.848.401.1550
|
Wervelkast
|
|
G4355
|
.11.848.401.1555
|
Wervelkast
|
|
G971
|
.11.848.411.142
|
Koelbuis
|
|
G042
|
.11.848.211.510
|
Kathode ARH2
|
|
G3008
|
.11.848.201.1608
|
Spuitmonddop
|
|
G3018
|
.11.848.201.1618
|
Spuitmonddop
|
|
G052
|
.11.848.311.510
|
Kathode
|
|
G105
|
.11.848.221.149
|
Gasgids
|
|
G2516
|
.11.848.311.616
|
Mondstuk
|
|
G4530
|
.11.848.311.1530
|
Wervelkast
|
|
G071
|
.11.848.411.500
|
Kathode ARH2
|
|
G125
|
.11.848.421.149
|
Gasgids
|
|
G2725
|
.11.848.411.625
|
Nozzle arh2
|
|
G2727
|
.11.848.411.627
|
Nozzle arh2
|
|
G2729
|
.11.848.411.629
|
Nozzle arh2
|
|
G3249
|
.11.848.401.1649
|
Spuitmonddop
|
|
G4335
|
.11.848.401.1535
|
Wervelkast
|
|
G4340
|
.11.848.401.1540
|
Wervelkast
|
|
G521
|
.11.848.401.081
|
Beschermende pet
|
Toepassing van plasmawervelgasdop g4020:
1. Productie van halfgeleiders
- Plasma-etsen: Enhances gas distribution for precise etching processes on semiconductor wafers.
- Chemical Vapor Deposition (CVD): Improves gas mixing for uniform thin film deposition.
2. Oppervlaktebehandeling
- Plasma Cleaning: Used in cleaning applications to ensure thorough surface preparation before coating or bonding.
- Surface Modification: Facilitates plasma treatments that alter surface properties for enhanced adhesion.
3. Materiaalverwerking
- Plasma Coating: Supports uniform coating processes in industries like aerospace and automotive.
- Metal Treatment: Plasma swirl gas cap G4020 effective in plasma hardening and surface treatment of metals.
4. Onderzoek en ontwikkeling
- Plasma Physics Studies: Utilized in laboratories for experiments involving plasma behavior and gas dynamics.
- Materiaalkunde: Assists in research on new materials and their interactions in plasma environments.
5. Medische toepassingen
- Plasmasterilisatie: Plasma swirl gas cap G4020 used in sterilization processes to ensure even gas flow for effective microbial reduction.
- Medical Device Coating: Facilitates coatings on medical devices for improved biocompatibility.
6. Energiesector
- Onderzoek naar kernfusie: Supports gas flow in experimental fusion reactors, enhancing plasma stability.
- Thermisch beheer: Used in power generation systems utilizing plasma technology.
Beoordelingen
Er zijn nog geen beoordelingen.