Beschreibung
Merkmale des Plasma Swirl Tankdeckels G4020:
1. Verbesserter Gasfluss
- Swirl-Technologie: Erzeugt eine Wirbelbewegung, die die Gasmischung verbessert und die Plasmastabilität erhöht.
- Gleichmäßige Verteilung: Die Plasmawirbel-Gaskappe G4020 gewährleistet eine gleichmäßige Gasverteilung für eine gleichmäßige Plasmaerzeugung.
2. Hochtemperaturbeständigkeit
- Langlebige Materialien: Hergestellt aus Materialien, die hohen Temperaturen standhalten und eine lange Lebensdauer in anspruchsvollen Umgebungen gewährleisten.
3. Korrosionsbeständigkeit
- Chemische Beständigkeit: Die Plasma-Wirbelgaskappe G4020 ist so konzipiert, dass sie Korrosion durch verschiedene Gase und Chemikalien widersteht, die in Plasmaprozessen verwendet werden.
4. Kompaktes Design
- Platzsparend: Die kompakte Größe ermöglicht eine einfache Integration in bestehende Systeme, ohne dass wesentliche Änderungen erforderlich sind.
5. Einfache Installation
- Benutzerfreundlich: Der Plasma-Wirbel-Tankdeckel G4020 gewährleistet einen einfachen Installationsprozess mit Standardanschlüssen für eine schnelle Einrichtung.
6. Vielseitige Anwendungen
- Breite Kompatibilität: Geeignet für verschiedene Plasmaanwendungen, einschließlich Halbleiterfertigung und Oberflächenbehandlung.
7. Verbesserte Plasmaleistung
- Effizienzsteigerung: Die Plasmawirbel-Gaskappe G4020 sorgt für eine verbesserte Gesamtplasmaleistung durch Optimierung des Gasflusses und der Stabilität.
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Hifocus130i
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CODE
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Beschreibung
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G901y
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.11.848.201.142
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Kühlrohr
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G002y
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.11.848.221.300
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Kathode O2
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G101
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.11.848.221.145
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Gasführer
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G2006
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.11.848.221.406
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Düse O2 25a
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G2007
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.11.848.221.407
|
Düse O2 35a
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G3004
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.11.848.201.1604
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Düsenkappe
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G4015
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.11.848.201.1515
|
Wirbelgasdeckel
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G4020
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.11.848.201.1520
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Wirbelgasdeckel
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G501
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.11.848.201.081
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Schutzkappe
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G003y
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.11.848.221.310
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Kathode -o2
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G102
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.11.848.221.146
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Gasführer
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G2008
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.11.848.221.408
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Düse O2 50a
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G2010
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.11.848.221.410
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Düse O2 80A
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G2012
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.11.848.221.412
|
Düse O2 120a
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G2014
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.11.848.221.414
|
Düse O2 160a
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G2016y
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.11.848.221.416
|
Düse O2 200a
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G3028
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.11.848.201.1628
|
Düsenkappe
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G4022
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.11.848.201.1522
|
Wirbelgasdeckel
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G4025
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.11.848.201.1525
|
Wirbelgasdeckel
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G4030
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.11.848.201.1530
|
Wirbelgasdeckel
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G032Y
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.11.848.421.310
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Kathode O2
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G034Y
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.11.848.421.330
|
Kathode O2
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G121
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.11.848.421.145
|
Gasführer
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G2326y
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.11.848.421.426
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Düse O2 280a
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G2330y
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.11.848.421.430
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Düse O2 360a
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G2331y
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.11.848.421.431
|
Düse -o2-400a
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G3209
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.11.848.401.1609
|
Düsenkappe
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G3219
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.11.848.401.1619
|
Düsenkappe
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G3229
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.11.848.401.1629
|
Düsenkappe
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G4345
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.11.848.401.1545
|
Wirbelgasdeckel
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G4350
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.11.848.401.1550
|
Wirbelgasdeckel
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G4355
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.11.848.401.1555
|
Wirbelgasdeckel
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G971
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.11.848.411.142
|
Kühlrohr
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G042
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.11.848.211.510
|
Kathode ARH2
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G3008
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.11.848.201.1608
|
Düsenkappe
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G3018
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.11.848.201.1618
|
Düsenkappe
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G052
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.11.848.311.510
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Kathode
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G105
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.11.848.221.149
|
Gasführer
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G2516
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.11.848.311.616
|
Düse
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G4530
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.11.848.311.1530
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Wirbelgasdeckel
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G071
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.11.848.411.500
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Kathode ARH2
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G125
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.11.848.421.149
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Gasführer
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G2725
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.11.848.411.625
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Düse ARH2
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G2727
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.11.848.411.627
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Düse ARH2
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G2729
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.11.848.411.629
|
Düse ARH2
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G3249
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.11.848.401.1649
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Düsenkappe
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G4335
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.11.848.401.1535
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Wirbelgasdeckel
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G4340
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.11.848.401.1540
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Wirbelgasdeckel
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G521
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.11.848.401.081
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Schutzkappe
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Anwendung des Plasmawirbel-Tankdeckels G4020:
1. Semiconductor Manufacturing
- Plasmaätzen: Enhances gas distribution for precise etching processes on semiconductor wafers.
- Chemical Vapor Deposition (CVD): Improves gas mixing for uniform thin film deposition.
2. Oberflächenbehandlung
- Plasma Cleaning: Used in cleaning applications to ensure thorough surface preparation before coating or bonding.
- Oberflächenmodifikation: Facilitates plasma treatments that alter surface properties for enhanced adhesion.
3. Materialverarbeitung
- Plasma Coating: Supports uniform coating processes in industries like aerospace and automotive.
- Metal Treatment: Plasma swirl gas cap G4020 effective in plasma hardening and surface treatment of metals.
4. Forschung und Entwicklung
- Plasma Physics Studies: Utilized in laboratories for experiments involving plasma behavior and gas dynamics.
- Materialwissenschaft: Assists in research on new materials and their interactions in plasma environments.
5. Medizinische Anwendungen
- Plasma -Sterilisation: Plasma-Wirbel-Gaskappe G4020, die in Sterilisationsprozessen verwendet wird, um einen gleichmäßigen Gasfluss für eine effektive Mikrobenreduzierung sicherzustellen.
- Beschichtung medizinischer Geräte: Erleichtert Beschichtungen auf medizinischen Geräten für eine verbesserte Biokompatibilität.
6. Energiesektor
- Nuklearfusionsforschung: Unterstützt den Gasfluss in experimentellen Fusionsreaktoren und verbessert die Plasmastabilität.
- Thermalmanagement: Wird in Stromerzeugungssystemen mit Plasmatechnologie verwendet.
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